<rt id="b2qlx"><blockquote id="b2qlx"></blockquote></rt><sub id="b2qlx"></sub>

  • <wbr id="b2qlx"><pre id="b2qlx"><button id="b2qlx"></button></pre></wbr>
  • <sub id="b2qlx"><table id="b2qlx"></table></sub>
        <sub id="b2qlx"></sub>
      1. <sub id="b2qlx"><table id="b2qlx"></table></sub>
        logo
        logo
        x

        網站導覽

        6/2021

        中微公司專利再次榮獲中國專利金獎

        近日,中微半導體設備(上海)股份有限公司的發明專利“等離子體處理裝置及調節基片邊緣制程速率的方法”榮獲第二十二屆中國專利金獎。

        近日,中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,股票代碼:688012)的發明專利“等離子體處理裝置及調節基片邊緣制程速率的方法”榮獲第二十二屆中國專利金獎。

        中國專利金獎由國家知識產權局與世界知識產權組織共同組織評選,被公認為是我國專利界的最高獎項。本屆共評選出30項中國專利金獎,中微公司的發明專利從眾多參評專利中脫穎而出。

        (圖為部分第二十二屆中國專利金獎獲獎項目)

        在等離子體刻蝕工藝中,等離子體中心和邊緣分布均勻性至關重要,直接決定了晶圓整體的刻蝕均勻性。隨著現有技術對集成電路的尺寸要求越來越小,線寬均勻度要求越來越高。如何提高刻蝕過程中等離子體中心和邊緣的分布均勻性,成為制約芯片刻蝕向更小尺寸發展的瓶頸問題,是本領域亟需應對的挑戰之一。

        中微公司的獲獎專利為芯片刻蝕提供了一種動態調節邊緣效應的解決方案。通過調節等離子體中心和邊緣射頻源的功率和相位差,該方案有效解決了等離子體刻蝕領域控制中心區域和邊緣區域等離子體分布均勻性這一關鍵性技術難題,為刻蝕設備更新迭代奠定基礎。

        此次是中微公司第二次獲得中國專利金獎。此前,中微公司的發明專利“感測和移除被加工半導體工藝件的殘余電荷的系統和方法”于2013年首次榮獲中國專利金獎。中微公司董事長兼總經理尹志堯博士說道:“中微公司再次榮獲中國專利金獎,不僅是對中微公司持續研發創新的高度肯定,也是對中微公司的專利價值與知識產權保護工作的認可。中微公司將繼續加強知識產權管理,嚴格遵守相關國家和地區的知識產權法律法規,再接再厲、不斷創新和超越,助力集成電路行業的高質量發展?!?/p>

        關于中微半導體設備(上海)股份有限公司

        中微半導體設備(上海)股份有限公司(證券簡稱:中微公司,證券代碼:688012)致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發的等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造各種微觀器件的關鍵設備,可加工微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現代數碼產業的基礎,它們正在改變人類的生產方式和生活方式。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用,中微公司開發的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備已在客戶生產線上投入量產,目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據領先地位。

        新聞發布

        • 中微公司榮獲第四屆中國質量獎提名獎

        • 中微公司專利再次榮獲中國專利金獎

        • 中微公司臨港產業化基地項目開工儀式順利舉行

        查看更多

        在线A图观看,老司机一区二区,国产女人与黑人在线播放,欧美乱伦23p