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        6/2021

        中微公司首臺8英寸CCP刻蝕設備Primo AD-RIE 200?順利付運

        2021年6月15日,中微半導體設備(上海)股份有限公司首臺8英寸甚高頻去耦合反應離子(CCP)刻蝕設備Primo AD-RIE 200?順利付運客戶生產線。

        2021年6月15日,中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,股票代碼:688012)首臺8英寸甚高頻去耦合反應離子(CCP)刻蝕設備Primo AD-RIE 200?順利付運客戶生產線。

        (圖為中微CCP刻蝕設備研發團隊部分主要成員)

        Primo AD-RIE 200?是中微公司自主研發的新一代8英寸甚高頻去耦合反應離子(CCP)刻蝕設備?;谝驯粯I界廣泛認可的12英寸CCP刻蝕設備的成熟工藝與特性,Primo AD-RIE 200?在技術創新和生產效率方面都有了進一步提升,能夠滿足不同客戶8英寸晶圓的加工需求。為了提高生產效率,Primo AD-RIE 200?刻蝕設備可靈活配置多達三個雙反應臺反應腔(即六個反應臺)。此外,Primo AD-RIE 200?提供了可升級至12英寸刻蝕設備系統的靈活解決方案,以滿足客戶生產線未來可能擴產的需求。

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        “Primo AD-RIE 200?是中微公司推出的用于8英寸晶圓加工的CCP刻蝕設備,豐富了中微公司現有的刻蝕設備產品線,是中微公司發展歷程中又一重要里程碑。中微公司不但聚焦于高端半導體設備領域,同時也提供其他多種設備以滿足集成電路和泛半導體領域多樣化的市場需求?!敝形⒐靖笨偛眉鍯CP等離子體刻蝕產品部總經理蘇興才博士說道,“我們希望堅持致力于產品創新和技術提升,不斷滿足客戶的多樣化需求,助力客戶應對行業挑戰?!?/p>

        關于中微半導體設備(上海)股份有限公司

        中微半導體設備(上海)股份有限公司(證券簡稱:中微公司,證券代碼:688012)致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發的等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造各種微觀器件的關鍵設備,可加工微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現代數碼產業的基礎,它們正在改變人類的生產方式和生活方式。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用,中微公司開發的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備已在客戶生產線上投入量產,目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據領先地位。

        新聞發布

        • 中微公司榮獲第四屆中國質量獎提名獎

        • 中微公司專利再次榮獲中國專利金獎

        • 中微公司臨港產業化基地項目開工儀式順利舉行

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